Материалы и методы нанотехнологий : учебное пособие
жүктеу/скачать 3.3 Mb. Pdf көрінісі
|
глава 2. Получение компактных двумерных и трехмерных наноматериалов Со-А1-О, осажденные на стеклянную подложку, были получены мето- дом реактивного распыления в атмосфере Аr + О 2 с использованием мишени из сплава Cо 72 A l28 . Концентрация кислорода в пленках изме- нялась от 0 до 47 ат. % при контроле над парциальным давлением О 2 в газовой смеси для реактивного распыления. Исследование показа- ло, что гигантское магнетосопротивление в пленке появляется, ког- да частицы Со полностью окружены аморфным оксидом алюминия. Значение гигантского магнетосопротивления очень сильно меняет- ся в зависимости от содержания кислорода в пленке и является мак- симальным, когда среднее расстояние между металлическими нано- частицами минимально. Разновидностью осаждения из плазмы является магнетронное распыление , которое позволяет использовать катоды не только из ме- таллов и сплавов, но и из различных соединений и снижать темпера- туру подложки на 200 K. Это расширяет возможности получения нано- структурированных пленок. Однако степень ионизации, кинетическая энергия ионов и скорость осаждения при магнетронном распылении ниже, чем при использовании плазмы электродугового разряда. С по- мощью магнетронного распыления мишени Ni 0.75 Al 0.25 и осаждения металлических паров на аморфную подложку получены интерметал- лидные пленки Ni 3 Al со средним размером кристаллитов около 20 нм. Эпитаксиальное осаждение (в вакууме, газовой или жидкой фазе) — один из основных методов синтеза полупроводниковых ми- кро- и наноструктур. Эпитаксиальное осаждение представляет собой процесс образования твердого вещества на подложке. Поскольку обра- зование эпитаксиальных слоев идет путем возникновения и слияния кристаллических зародышей, размеры которых заведомо превышают толщину монослоя, невозможно получить слой вещества заданной толщины и воспроизвести состав, строение химических соединений. жүктеу/скачать 3.3 Mb. Достарыңызбен бөлісу:
|