Часто используемые англиские сокращения
|
Жиі қолданылатын ағылшын қысқартулары
|
DLC – покрытия
Diamond-like-carbon coatings
Алмазоподобные углеродные покрытия. Пленки углерода со структурой, близкой к алмазу и особыми характеристиками: высокой твердостью, высокой износостойкостью, очень низким коэффициентом трения и высокой химической стойкостью. С помощью DLC можно управлять смачиваемостью поверхностей в широких пределах. Областью их применения большей частью являются износостойкостью адгезионные и антиадгезионные покрытия. Они представляют собой группу твердых веществ с высокой износостойкостью и очень малым трением (вплоть до тефлоноподобных покрытий) для самых разнообразных технических применений.
|
DLC – покрытия
Diamond-like-carbon coatings
Алмаз тәріздес көміртекті жабындар. Ерекше сипаттамалар: оның ішінде жоғары каттылыққа, жоғары тозуға төзімділікке, үйкелістің өте төмен коэффициентіне, жоғары химиялық төзімділікке және алмазға жақын құрылымға ие көміртегі қабыршақтары. DLC көмегімен кең шектеулерде беттердің сулануын басқаруға болады. Олардың кеңінен қолданылатын облыстары адгезиялық тозуға төзімділік пен антиадгезиялық жабындар болып табылады. Олар алуан түрлі техникалық қолданыстарға арналған жоғары тозуға төзімділік пен аз үйкеліске ие (тіпті тефлон тәрізді жабындарға дейін) қатты денелердің тобын ұсынады.
|
DPA
Number of displacements per atom
Суммарное количество смещений атомов в тердом теле, вызванных облучением быстрыми частицами (обычно нейтронами, ионами, осколками деления), отнесенные к полному количеству атомов. Является важной характеристикой степени повреждения твердого тела в результате облучения и служит показателем ресурса работы материала в радиационном поле.
|
DPA
Number of displacements per atom
Атомдардың толық мөлшеріне келетін шапшаң бөлшектермен (әдетте нейтрон-дармен, иондармен, бөліну сынықтар-ымен) сәулелендіру нәтижесінде пайда болған қатты денедегі атомдар ығысуы-ның қорытқы мөлшері. Сәулелену нәтиже-сінде қатты дененің зақымдалу деңгейінің маңызды сипаттамасы және радиациялық өрісте материалдың жұмыс ресурсының көрсеткіші қызметін атқарады.
|
SIMS
Sekondary ion mass-spectrometry
Масс-спектрометрия вторичных ионов. Чувствительный метод для анализа состава тонких слоев. Поверхность бомбардир-уется высокоэнергетическими первичными ионами, вследсвие чего наряду с другими частицами имеет место эмиссия вторичных ионов. Они регустрируются с помощью масс-спектрометра.
|
SIMS
Sekondary ion mass-spectrometry
Екіншілік иондардың масс-спектрометриясы. Жұқа қабаттардың құрамын талдауға арналған сезімтал тәсіл. Беткі қабат жоғары энергетикалық біріншілік иодармен атқыланады, осының салдарынан басқа бөлшектермен қатар екіншілік иондардың эмиссиясы орын алады.
|
PACVD- методы
Plasma assisted chemical vapor deposition
Группа методов осаждения покрытий, построенных на CVD-процессах, сопровождаемой плазмой.
|
PACVD- әдістері
Plasma assisted chemical vapor deposition
Плазмамен қосарлас жүретін, CVD-процестеріне құрылған жабындарды тұндыру әдістерінің тобы
|
PECVD- методы
Plasma enhanced chemical vapor deposition
Группа методов осаждения покрытий, построенных на CVD-процессах, усиленных с помощью плазмы.
|
PECVD- әдістері
Plasma enhanced chemical vapor deposition
Плазманың көмегімен күшейтілген CVD-процестеріне құрылған жабындарды тұндыру әдістерінің тобы.
|
CVD-методы
Chemical vapor deposition
Группа методов осаждения покрытий путем подачи газообразного реагента в рабочую камеру, где он контактируетсяс поверхностью подложки (загатовки), выделяя материал для абсорбции или аккумилирования на рабочей поверхности. Оставщийся газ удаляется из камеры вместе с избыточным рабочим газом. В качестве важных применений плазменных CVD-процессов выступают осаждение пленок аморфного углерода и кремния, а также пленокнидрида титана, карбида титана или нитрида кремния.
|
CVD- әдістері
Chemical vapor deposition
Газ тәрізді реагентті абсорбция үшін материалды бөле отырып немесе жұмыс бетінде аккумуляторлай отырып, төсеніш бетімен байланысқа түсетін, жұмыс камерасына беру арқылы жабындарды тұндыратын әдістер тобы. Қалдық газ камерадан артық жұмыстық газбен бірге шығарылады. Плазмалық CVD-процестердің маңызды қолданыстары ретінде кремний мен аморфты оттегінің, қабыршақтарын, сондай-ақ титан нидридінің, титан карбидінің немесе кремний нитридінің қабыршақтары қызмет етеді.
|
MFC
Mass flow controller
Регулятор расхода газа. Прибор, с помощью которого можно очень точно регулировать подачу газа в рабочую камеру. Синоним слова «натекатель», которое используется только в русскоязычной технической литературы.
|
MFC
Mass flow controller
Газ шығынын реттеуші. Жұмыс камерасына газдың берілу дәлдігін реттеуге болатын құрал. Тек орыс тілді техникалық әдебиетте ғана қолданылатын «натекатель» сөзіне синоним.
|
OAUGDP
One atmosphere uniform glow discharge plasma
Однородная плазма тлеющего разряда при нормальном давлении.
|
OAUGDP
One atmosphere uniform glow discharge plasma
Қалыпты қысым кезінде солғын разрядтың біртекті плазмасы.
|
PVD- методы
Physical vapor deposition
PVD-методы осаждения покрытий основаны на распылении и испарении вещества. Первый из них предполагает перенос материала от источника к детали посредством бомбардировки мишени обычно газовыми ионами, которые ускоряются в электрическом поле. Второй основан на переносе материала от мишени к покрытию только путем испарения и последующей конденсации атомов на подложке. PVD-покрытия используются, чтобы улучшить износостойкость, сопротивление истиранию, твердость режущих инструментов, коорозионную стойкость поверхности и т.д.
|
PVD- әдістері
Physical vapor deposition
Жабындарды тұндырудың PVD-әдістері затты буландыру мен тозаңдандыруға негізделген. Бұлардың біріншісі көзден электрлі өрісінде үдейтін әдетте газды иондармен нысананы атқылаудың көмегі-мен детальға материалдың тасымалдан-уын болжайды. Екіншісі нысанадан жаб-ынға тек булану және төсеніштегі атом-дардың келесі конденсациясы жолымен материалдың тасымалдануына негіздел-ген. PVD-жабындар тозуға төзімділікті жақсарту, уатылуға қарсыласуға, кесуші инструменттердің қаттылығын, беттің коорозиялық төзімділігін және т.б жақсарту үшін қолданылады.
|
TOF-SIMS
Time of flight secondary ion mass spectrometry
Сокрощание от выражения «время пролетная масс-спектроскопия вторичных ионов». Метод анализа поверхности, при котором она бомбардируется пульсирую-щим пучком ионов. По продольжител-ностью полета испускаемых вторичных ионов можно точно определить их массу и, таким образом, состав поверхности.
|
TOF-SIMS
Time of flight secondary ion mass spectrometry
«екіншілік иондардың уақыт аралық масс-спектроскопиясы уақыты» сөз тіркестерінің қысқартылуы. Иондардың пульстаушы шоғымен атқыланатын бет талдаудың әдісі. Шығарылатын екіншілік иондардың ұшу ұзақтығы бойынша олардың массасын, осылайша беттің құрамын анықтауға болады.
|
