Плазмобу́р
Plasma dreel tool
Плазмотрон специальной конструкции, применяемый в плазменном бурении в качестве рабочего органа.
Плазмобур
Plasma dreel tool
Плазмалық бұрғылауда жұмыс жасаушы ағза ретінде қолданылатын арнайы құрылымды плазматрон.
|
Плазмо́н
Plasmon
Квазичастица, описывающая колебания электронов вокруг тяжёлых ионов в плазме, в частности, в плазме твёрдых тел. Квант плазменных колебаний. Термины «плазмон» и «плазменное колебание» часто используют как синонимы в плазме твердых тел.
См. также плазма.
|
Плазмон
Plasmon
Плазмадағы, атап айтқанда қатты дене плазмасында, ауыр иондардың маңайындағы электрондардың тербелісін сипаттайтын квазибөлшектер. Плазмалық тербелістің кванты. Қатты дененің плазмасында «плазмон» және «плазмалық тербеліс» терминдері синоним ретінде жиі қолданылады.
|
Плазмотро́н (плазматрон, плазменный генератор)
Plasmatron, plasma generator
Газоразрядное устройство для получения струи плотной (с давлением порядка атмосферного) низкотемпературной плазмы с помощью электрических разрядов в газах для научных и технологических целей.
|
Плазмотрон (плазматрон, плазмалық генератор)
Plasmatron, plasma generator
Ғылыми және технологиялық мақсатта қолдану үшін газдағы электрлік разрядтың көмегімен тығыз төмен температуралы плазма ағысын алуға арналған газды разрядты қондырғы.
|
плазмотрон высокочастотный / high-frequency plasmatron — источник плазмы, представляющий собой электромагнитную катушку, индуктор (устройство для индукционного нагрева газа) или электроды, подключённые к высокочастотному (обычно более 100 кГц) электрическому источнику энергии, разрядную камеру и узел ввода плазмообразующего газа.
|
жоғары жиілікті плазмотрон / high-frequency plasmatron — жоғары жиілікті (әдетте 100 кГц тен жоғары) электрлік энергия көзіне, разрядты камераға және плазма түзетін газды енгізетін түйінге қосылған электромагниттік катушка, индуктор (газды индукциялық қыздыруға арналған қондырғы) немесе электрод түріндегі плазманың көзі.
|
плазмотрон высокочастотный емкостный / high-frequency capacitive plasmatron — источник плазмы, представляющий собой разрядную камеру, в которую введены электроды в виде конденсатора, подключённые к высокочастотному электрическому источнику энергии, и узел ввода плазмообразующего газа. Способен работать при атмосферном давлении.
|
жоғары жиілікті сыйымдылықты плазмотрон / high-frequency capacitive plasmatron — жоғары жиілікті (әдетте 100 кГц тен жоғары) электрлік энергия көзіне, разрядты камераға және плазма түзетін газды енгізетін түйінге қосылған, конденсатор түріндегі электродтар енгізілген разрядтық камера түріндегі плазманың көзі. Атмосфералық қысым жағдайында да жұмыс жасауға қабілетті.
|
плазмотрон высокочастотный индуцированный / high-frequency induced plasmatron — источник плазмы, в котором плазмообразующий газ нагревается вихревыми токами. Значительным преимуществом его является возможность получать весьма чистую плазму благодаря тому, что индукционный высокочастотный разряд является безэлектродным. Подобные плазмотроны используют для нагрева активных газов (О2, Сl2, воздуха и др.), паров агрессивных веществ (хлоридов, фторидов и др.), инертных газов. С помощью индукционных плазмотронов получают тонкодисперсные и особо чистые порошковые материалы на основе нитридов, боридов, карбидов и других химических соединений. В плазмохимических процессах объём разрядной камеры таких плазмотронов может быть совмещён с реакционной зоной.
См. также реактор плазменный.
|
индукцияланған жоғары жиілікті плазмотрон / high-frequency induced plasmatron — плазма түзуші газ құйынды токтармен қыздырылатын плазманың көзі. Оның маңызды артықшылығы индукциялық жоғары жиілікті разрядтың электродсыз болуының арқасында айтарлықтай таза плазманы алу болып табылады. Мұндай плазмотрондар белсенді газдарды (О2, Сl2, ауа және т.б.), агрессиялы заттардың буын (хлоридтердің, фторидтердің және т.б.), инертті газдарды қыздыру үшін қолданылады. Индукциялық плазманың көмегімен нитридтердің, боридтердің, карбидтердің және басқа химиялық қосындылардың негізінде жіңішке дисперсиялық және аса таза ұнтақты материалдар алынады. Плазмохимиялық процестерде мұндай плазматрондардың разрядтық камерасының көлемі реакциялық аймақпен біріктірілуі мүмкін.
Сон. қ. қараңыз: плазмалық реактор.
|
плазмотрон дуговой постоянного тока / direct carrent arc discharge plasmatron — источник плазмы, основанный на использовании дугового разряда на постоянном токе в среде плазмообразующего газа. Состоит из следующих основных элементов: одного (катода) или двух (катода и анода) электродов, разрядной камеры и узла подачи газа.
Существуют дуговые плазмотроны с осевым и коаксиальным расположением электродов, с тороидальными электродами, с двусторонним истечением плазмы, с расходуемыми электродами и т.д. Отверстие разрядной камеры, через которое истекает плазма, сопряжено с соплом. Различают две группы дуговых плазмотронов — для создания внешней плазменной дуги и плазменной струи. У первых дуговой разряд горит между катодом и обрабатываемым телом, служащим анодом. У вторых плазма, создаваемая в разряде между катодом и анодом, истекает из разрядной камеры в виде узкой длинной струи. Разрядная камера может быть совмещена с электродами (так называемые плазмотроны с полым катодом).
|
тұрақты токты доғалық плазматрон / direct carrent arc discharge plasmatron — плазма түзуші ортада тұрақты токта доғалық газды разрядты қолдануға негізделген плазманың көзі. Негізгі элементтері: бір (катод) немесе екі (катод және анод) электрод, разрядты камера және газ беруші түйін.
Электродтары осьтік және коаксиальді орналасқан, тороидты электродтары, плазманың екі жақты ағыны, шығындалатын электродтары және т.б. бар доғалық плазмотрондар қолданылады. Шүмекпен (сопломен) жанасқан плазма ағатын разрядтық камераның саңылауы. Доғалық плазмотронның сыртқы плазмалық доғаны және плазмалық ағынды алуға негізделген екі түрі бар. Біріншісінде доғалық разряд анод рөлін атқаратын өңделетін зат пен катод аралығында жанады. Екіншісінде анод және катод аралығындағы разрядта пайда болатын плазма разрядтық камерадан жіңішке ұзын ағын түрінде ағып шығады. Разрядтық камера электродтармен(қуыс катодты плазмотрондар) бірге біріктірілуі мүмкін.
|
плазмотрон дуговой переменного тока / alternative current arc discharge plasmatron — источник плазмы, основанный на использовании дугового разряда на переменном токе низкой частоты в среде плазмообразующего газа. В целом конструкционно аналогичен плазмотрону дуговому постоянного тока.
|
айнымалы токты доғалық плазматрон / alternative current arc discharge plasmatron — плазма түзуші газды ортада төменгі жиілікті айнымалы токтағы доғалық разрядты қолдануға негізделген плазманың көзі. Негізінде конструкциялық жағынан доғалық тұрақты ток плазматронына ұқсас.
|
плазмотрон коаксиальный / coaxial plasmatron — плазмотрон с коаксиальным расположением электродов.
|
коксиальді плазмотрон / coaxial plasmatron — электродтарды коксиальді орналасқан плазмотрон.
|
плазмотрон осевой — плазмотрон с осевым расположением электродов.
|
осьтік плазмотрон — электродтар осьті орналасқан плазмотрон.
|
плазмотрон с внутренней дугой — плазмотрон с дугой, расположенной внутри разрядной камеры.
|
ішкі доғалы плазмотрон – разрядты камераның ішінде орналасқан доғасы бар плазмотрон.
|
плазмотрон с вынесенной дугой — плазмотрон с дугой, часть которой расположена за пределами разрядной камеры.
|
доғасы шығарылған плазмотрон – бір бөлігі разрядты камераның сыртында орналасқан доғасы бар плазмотрон.
|
плазмотрон сверхвысокочастотный / microwave plasmatron — плазмотрон с частотой источника питания более 1 ГГц.
|
аса жоғары жиілікті плазмотрон / microwave plasmatron — қоректену көзінің жиілігі 1 ГГц-тен жоғары плазматрон.
|
плазмотрон струйный / jet plasmatron — плазмотрон, у которого плазма сформирована в виде направленной струи, движущейся с до- и сверхзвуковой скоростью. При этом вкладываемые мощности составляют 103 - 107Вт и более.
|
ағынды плазмотрон / jet plasmatron — плазмасы дыбыс жылдамдығынан жоғары және оған дейінгі жылдамдықпен қозғалатын, бағытталған ағыс түрінде түзілген плазмотрон. Сонымен қатар берілетін қуат 103-107Вт және жоғары болады.
|
плазмотрон факельный / high-frequency flame plasmatron — источник плазмы, основанный на использовании высокочастотного факельного разряда в среде плазмообразующего газа.
См. также разряд факельный.
|
алаулы плазмотрон / high-frequency flame plasmatron — плазма түзуші газды ортада жоғары жиілікті алаулы разрядты қолдануға негізделген плазманың көзі.
Сон. қ. қараңыз: алаулы разряд.
|
Плазмохимия
Plasmochemistry
Наука, изучающая закономерности физико-химических процессов и реакций в низкотемпературной плазме. Здесь особен-но важно разделение низкотемпературной плазмы на квазиравновесную, которая существует при давлениях порядка атмосферного и выше и характеризуется общей для всех частиц температурой, и неравновесную, которая может быть получена при давлениях менее 30 кПа и в которой температура свободных электронов значительно превышает температуру тяжелых частиц (молекул, ионов). Это разделение связано с тем, что кинетические закономерности квазиравновесных плазмо-химических процессов определяются только высокой температурой взаимодействующих частиц, тогда как специфика неравновесных плазмохимических процессов обусловлена главным образом большим вкладом химических реакций, инициируемых «горячими» электронами.
|
Плазмохимия
Plasmochemistry
Төменгі температуралы плазмадағы физика-химиялық процестердің және реакциялардың заңдылықтарын зерттейтін ғылым. Мұнда төмен температуралы плазманы атмосфералық және одан жоғары қысымда түзілетін және барлық бөлшектері үшін бірдей болып келетін температурамен сипатталатын квазитепе-теңдікті және 30 кПа-дан төмен қысымда түзілетін және ондағы еркін электрондардың температурасы ауыр бөлшектердің (молекулалардың, иондардың) температурасынан айтарлықтай жоғары болатын тепе-теңсіз деп бөлу аса маңызды. Бұл бөліну квазитепе-теңдікті плазмохимиялық процестердің кинетикалық заңдылықтары тек өзара әсерлесуші бөлшектердің жоғарғы температурасымен ғана анықталса, ал тепе-теңсіз плазмохимиялық процестердің қасиеттері, негізінен «ыстық» электрондар қоздыратын химиялық реакциялардың үлкен әсерімен анықталуымен түсіндіріледі.
|
Плаки́рование
Cladding , coating, metal protection (от франц. Plaquer – покрывать)
Нанесение на поверхность металлических изделий (листов, плит, проволоки, труб и др.) тонкого модифицирущего слоя другого металла или сплава горячей прокаткой, прессованием или взрывом. Плакирование может быть одно- и двухсторонним.
|
Плакирлеу
Cladding , coating, metal protection (фр. Plaquer – жабу)
Металл бұйымдардың бетіне престеу немесе жарылыс көмегімен басқа металдан немесе қорытпадан жұқа модификациялаушы қабат жағу. Плакирование бір немесе екі жақты болуы мүмкін.
|
плакирование ионное / ion coating — осаждение модифицирующих или защитных покрытий на поверхность твёрдого тела путём конденсации из паровой фазы или потока распылённых атомов, сопровождаемое облучением подложки пучком ускоренных ионов (для улучшения структуры, механических свойств и адгезии покрытий). Структура возникающего слоя в значительной мере зависит от температуры подложки.
|
иондық плакирлеу / ion coating — үдетілген иондар (құрылымды, механикалық қасиетті және жабынның адгезиясын жақсарту үшін) шоғырымен төсенішті сәулелендірілуімен бірге жүретін тозаңдатылған атомдардың ағынымен немесе булық фазаның конденсациясы жолымен қатты дененің бетіне модификациялаушы немесе қорғаныш жабынды тұндыру. Пайда болатын қабаттың құрылымы төсеніштің температурасына айтарлықтай тәуелді.
|
плакирование ионно-паровое
попеременное — осаждение модифицирующих или защитных покрытий на поверхность твёрдого тела путём чередования процесса конденсации его из паровой фазы и осаждения потока распылённых атомов, сопровождаемое облучением подложки пучком ускоренных ионов.
|
кезекпе-кезек иондық-булық плакирлеу - үдетілген иондар шоғырымен төсенішті сәулелендірілуімен бірге жүретін тозаңдатылған атомдардың ағынының тұндырылуы мен булық фазадан конденсация процесін кезекімен қолдану арқылы қатты дененің бетіне модификациялаушы немесе қорғаныш жабынды тұндыру.
|
плакирование ионное реактивное — плакирование ионное с плазменной поддержкой, при котором реактивный газ вводится в плазму, реагирует с испарённым металлом и образует слой покрытия из возникающего соединения. Например, таким способом можно провести реакцию паров титана с азотом. В результате образуется пленка нитрида титана.
|
реактивті иондық плакирлеу – плазмамен қолдалатын иондық плакирлеу. Бұл кезде реактивті газ плазмаға ендіріледі, ол буланған металмен әрекеттеседі және пайда болушы қоспадан жабынды қабат түзеді. Мысалы, осы әдіспен титан мен азот буларының реакциясын жүзеге асыруға болады. Нәтижесінде титан нитриді жабыны пайда болады.
|
Пластичность
Ductility, plasticity
Свойство твердых тел необратимо изменять свои размер и форму без разрушения (т.е. пластически деформироваться) под действием приложенных внешних сил. Пластические свойства твердых тел подвержены измерению при облучении.
|
Пластикалық
Ductility, plasticity
Қатты денелердің сыртқы күштердің әсерінен өздерінің өлшемі мен пішінін бүлдірмей (яғни деформациялану) өзгерту қасиеті. Қатты денелердің пластикалық қасиеттерін сәулелену кезінде өлшеуге мүмкіндік бар.
|
сверхпластичность / superplasticity – свойство некоторых металлов и сплавов мелкозернистой структуры в определенном диапазоне температур сильно деформируется (деформация до 100% и более) без разрушения или трещинообразования под дейсвием относительно малых нагрузок.
См.также деформируемость
|
шамадан тыс созылымдылық / superplasticity –
ұсақдәнді құрылымды кейбір металдар мен балқымалар қасиеттері температураның белгілі бір диапазонында шағын жүктемелер қатынасының әсерінен бұзылу мен жарықшақ түзілместен қатты деформацияланады (100% және одан да жоғары деформация).
Сон.қара деформациялану
|
Платини́рование
Platinizing, platinum plating
Осаждение (обычно электрохимическое или химическое) защитно-декоративных или каталитических покрытий.
|
Платиналау
Platinizing, platinum plating
Қорғанысты-сәндік немесе катализдік жабынды тұндыру (әдетте электрохимиялық немесе химиялық).
|
Плёнка тонкая
Thin film
Сплошное или островковое образования из конденсированной (реже – газообразной) фазы на твёрдой или жидкой поверхности. Толщина её соизмерима с расстоянием действия поверхностных сил. Имеет особые (в сравнении с объемной фазой, из которой образовалась тонкая плёнка) состав, структуру и термодинамические характеристики. В пределе переходит в мономолекулярные слои. Различают симметричные тонкие плёнки, разделяющие фазы одинакового состава, и несимметричные, образующиеся, например, при растекании жидкости по твердой или жидкой поверхности (смачивающие пленки).
См. также слой мономолекулярный.
|
Жұқа қабыршық
Thin film
Қатты немесе сұйық бетте конденсірлі ортадан (кейде газ тәріздес фазадан) болатын тұтас немесе үшкір түзіліс. Оның қалыңдығы беттік күштердің әсерімен шамалас. Айырықша (жұқа пленка түзілген көлемдік фазамен салыстырғанда) құрамға, құрылымға және термодинамикалық сипаттамаларға ие). Шекті жағдайда мономолекулалы қабатқа өтеді. Бәрдей құрамды бөліп тұрған симметриялы жұқа пленка, мысалы сұйық қатты немесе сұйық бетпен (жұғатын беттер) аққанда түзілетін симметриялы емес деп ажыратады.
|
пленка алмазоподобная / diamоnd like carbon (DLC) thin film — тонкая углеродная плёнка, по структуре близкая к алмазу. Обладает чрезвычайно высокой твердостью, хорошими антифрикционными свойствами и стойкостью к коррозии, кислотам и щелочам. Подобные плёнки создаются с помощью плазменных CVD-методов из углеводородных газов. Перспективный материал с уникальными свойствами, сравнимыми со свойствами алмаза. Совокупность высоких электрических, оптических, акустических, химических и механических свойств позволяет использовать эти пленки для эффективного теплоотвода, для получения слоев с высокими оптическими и диэлектри-ческими характеристиками, нанесения защитных покрытий с целью герметизации, придания механической прочности, химической и радиационной стойкости.
|
алмаз тәрізді қабыршық / diamоnd like carbon (DLC) thin film — құрылымы жағынан алмаздікіне жақын көміртекті қабыршық. Аса жоғары қаттылыққа, жақсы антифрикциялы қасиеттерге ие және коррозияға, қышқылға және сілтілерге тұрақты. Мұндай қабыршықтар көміртекті сутекті газдардан плазмалық CVD-әдісінің көмегімен алынады. Алмаздікіне ұқсас керемет қасиеттерге ие, болашағы мол материал. Материалдың бойындағы жоғары электрлік, оптикалық, акустикалық, химиялық және механикалық қасиеттерінің жиыны бұл қабыршықтарды жылуды тиімді кетіру үшін, жоғары оптикалық және диэлектрлік қасиеттерге ие қабаттар алуда, герметизациялау мақсатында қорғаушы жабындарды жабуда, механикалық беріктік, химиялық және радиациялық төзімділігін арттыруда қолдануға мүмкіндік береді.
|
пленка магнитная / magnetic film — слой магнитного вещества (обычно ферро- или ферримагнетика) толщиной от долей нанометра до нескольких микрометров с рядом особенностей атомно-кристалли-ческой структуры, магнитных, электричес-ких и других физических свойств, отличающих пленку от массивных магнетиков.
|
магнитті пленка / magnetic film - қалыңдығы нанометрдің бірнеше үлесінен бірнеше микрометрге дейінгі магнит заттың қабаты (әдетте ферро- немесе ферримагнетик). Мұнда пленканы массивті магнетиктерден ерекшелендіретін атомдық-криссталдық құрылыммен, магниттік, электрлік және басқа физикалық қасиеттерімен ерекшеленеді.
|
пленка оксидная / oxide film — пленка, образующаяся на поверхности металлов или сплавов, состоящая преимущественно из оксидов металла. Наличие подобной плотной пленки на многих металлах (например, на Al, Ti и др.) предохраняет их от коррозии.
|
оксидтік пленка / oxide film - металдар мен қорытпалардың бетінде қалыптасатын негізінен металл оксидінен тұратын пленка. Көптеген металлдардағы (мысалы, Al, Ti және т.б.-да) мұндай тығыз пленка оларды коррозиядан қорғайды.
|
пленка островковая / island film — ансамбль обычно трехмерных частиц на поверхности твердого тела. Представляет собой промежуточную фазу между сплошной тонкой пленкой и зародышами, конденсировавшимися на поверхности из паровой или газовой фазы.
|
аралды пленка / island film — қатты дене бетіндегі әдетте үшөлшемді бөлшектердің ансамблі. Тұтас жұқа пленка мен газды немесе бк фазасынан бетте конденсрленетін дәнектердің арасындағы аралық фаза болып келеді.
|
пленка полимерная / polymer film — сплошной слой полимеров толщиной не более 0,3 мм. Более толстые слои называются листами или пластинами.
|
полимер пленка / polymer film — полимерлердің қалыңдығы 0,3 мм-ден артық емес тұтас қабаты. Бұдан неғұрлым қалың қабаттар жапырақ немесе пластиналар деп аталады.
|
пленка аморфная тонкая / thin amorphous film — двумерное образование толщиной 1 – 1000 нм, характеризующееся отсутствием дальнего порядка в расположении атомов при комнатной температуре. Ее обычно получают из паровой (газовой) фазы, созданной ионно-плазменным распылением или испарением, с последующей высокоско-ростной конденсацией на охлажденную жидким азотом подложку. Иногда для этих целей используют химическое и электролизное осаждение ионов металлов на поверхность.
|
аморфты жұқа қабыршық / thin amorphous film — бөлме температурасында атомдардың орналасуының алыс реттілігі жоқ, қалыңдығы 1-1000нм екі өлшемді түзіліс. Оны әдетте ионды-плазмалық тозаңдандыру арқылы түзілген булық (газдық) фазадан немесе кейіннен төсенішті сұйық азоттың көмегімен суыту арқылы жоғары жылдамдықты конденсацияланатын буланудың көмегімен алады. Кей жағдайда бұл мақсатта бетке иондарды химиялық және электролиздік тұндыруды да қолданады.
|
пленка эпитаксиальная тонкая / thin epitaxial film — пленка, когерентно или частично когерентно граничащая с кристаллическим материалом, на котором она формируется.
|
эпитаксиальді жұқа қабыршық / thin epitaxial film — өзі қалыптасатын кристал материалымен когерентті немесе ішінара шекараласатын пленка.
|
|
